プレス加工においては、複雑な形状を持つ基材の場合、標準的なUV装置ではうまく対応できないことが多い。反射板の配置やランプの位置によって光が届かない部分では、表面が粘着性を持ち続け、それによりスクラップや再作業が発生する。重要なのは、UVエネルギーが表面に到達するかどうかではなく、そのスペクトル分布や空間的な分布が、表面の深い部分まで届き、ピーク値が過度に高くならないかどうかだ。
技術的に重要な点
ガリウムドープされたUVエミッターによって、スペクトル出力が395～405nm付近に調整される。これにより、フォトイニシエーターとの相性が良くなり、光子の浸透性も向上する。365nmの水銀系の光に比べて、405nmの光は、着色剤や充填剤が含まれる材料でも均一に硬化させることができ、表面と内部の差も小さくなる。基材面でのピーク照度はmW/cm²で表され、5,000時間以上使用しても出力の低下は5％未満である。反射板には、ガリウムの特性に合わせて調整された二色性コーティングが施されており、有効なUV光を集中させつつ、赤外線による熱影響を基材に与えないようにしている。オゾンフリーでの動作が標準であり、エミッターはコンパクトなアレイ形式で配置されているため、印字領域全体のエネルギー密度（mJ/cm²）を予測することができる。
実際の現場での効果
ガリウムエミッターを利用して、カスタマイズされたUV加熱素子を作成し、エネルギーの分布を最適化することで、もはや死角が生じない。ビームの発散を制御し、追加の微小反射板を使用することで、曲面やエッジ部分にも硬化処理を行うことができる。これにより、不規則な形状の部品でも均一に硬化できる。結果として、一貫した硬化が実現し、不良品が減少し、ランプの交換回数も減る。また、過剰な照明を避けることで、エネルギーの消費も削減される。
実用的な詳細
ガリウムエミッターを使用する場合、厳格な温度管理が必要だ。基材の温度にも注意が必要で、反射板の効率によって局所的な熱が発生する可能性がある。導入する前に、照明装置の互換性や反射板の形状を確認する必要がある。また、スペクトルの検証は、ランプの表面ではなく、基材面で正確に行う必要がある。