<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>厚 on UV Lamp Direct</title>
		<link>http://uv-lamp-direct.com/zh/tags/%E5%8E%9A/</link>
		<description>Recent content in 厚 on UV Lamp Direct</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 15:21:40 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-direct.com/zh/tags/%E5%8E%9A/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>用于厚膜涂层的镓基紫外线发射器</title>
				<link>http://uv-lamp-direct.com/zh/posts/gallium-uv-emitter-for-thick-film/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 15:21:40 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-direct.com/zh/posts/gallium-uv-emitter-for-thick-film/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-direct.com/images/b717d9f0742111373c1b4fa943a6ce46.png&#34; alt=&#34;用于厚膜涂层的镓基紫外线发射器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在印刷领域中，结构复杂、轮廓复杂的基底往往比普通UV光源更适用。那些处于阴影中的区域——即反射器结构或灯体位置无法照射到的地方——仍然会保持潮湿状态，从而导致废品产生和需要返工。关键问题不在于UV能量是否能够到达表面，而在于其光谱分布和空间分布是否能够深入到基底的内部，同时避免过度照射导致的问题。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
