Bei komplexen und unregelmäßig geformten Untergründen überwiegen routinemäßig die Vorteile von UV-Systemen mit komplexer Geometrie gegenüber herkömmlichen UV-Anlagen. In den beschatteten Bereichen – also dort, wo die Geometrie des Reflektors sowie die Anordnung der Lampe nicht ausreichen, um das Licht zu erreichen – bleibt die Oberfläche klebrig. Das führt zu Ausschuss und erneuten Bearbeitungen. Die echte Frage ist nicht, ob das UV-Licht die Oberfläche erreicht – sondern ob das spektrale Profil sowie die räumliche Verteilung des Lichts auch in die tiefsten Ecken vordringen kann, ohne dabei die höchsten Intensitätswerte zu überschreiten.
Was technisch wichtig ist:
Gallium-dotierte UV-Emitter sorgen dafür, dass das spektrale Ausgangssignal bei 395–405 nm liegt. Dies entspricht dem Spektrum von Dickschicht-Fotoinitiatoren und ermöglicht eine bessere Penetration der Photonen in die Oberfläche. Im Vergleich zu Quecksilber-basierten Linien bei 365 nm führt der Peak bei 405 nm zu einer gleichmäßigeren Aushärtung in pigmentierten und gefüllten Formulierungen. Dadurch wird der Unterschied zwischen der Oberfläche und den unteren Schichten verringert. Wir geben die maximale Strahlungsintensität auf der Oberfläche in mW/cm² an. Zudem bleibt die Leistung über 5.000 Stunden hinweg konstant – mit weniger als 5% Abfall. Die Reflektoren verwenden dichroitische Beschichtungen, die auf das Spektrum des Galliums abgestimmt sind. Dadurch wird das nutzbare UV-Licht gebündelt, während Wärme aus dem Infrarotbereich von der Oberfläche ferngehalten wird. Ein Betrieb ohne Ozon ist Standard. Der Emittent lässt sich außerdem in kompakten Anordnungen einsetzen, wodurch die Energiedichte über die gesamte Druckfläche berechnet werden kann.
Warum es in der Praxis funktioniert:
Wir entwickeln maßgeschneiderte UV-Heizelemente rund um die Gallium-Emitter, um das Energiefeld zu beeinflussen. Dadurch entstehen keine „toten Zonen“ mehr. Durch die Steuerung der Strahlungsverteilung sowie den Einsatz zusätzlicher Mikro-Reflektoren kann die Aushärtung auch in unebenen Bereichen erfolgen – somit gibt es keine Probleme mehr durch Schatten. Das Ergebnis ist eine gleichmäßige Aushärtung über die gesamte Druckfläche. Dadurch werden weniger Ausschussprodukte erzeugt, außerdem sind weniger Lampenwechsel nötig. Der Energieverbrauch sinkt, da das System die erforderliche Dosis direkt auf die Oberfläche abgibt, ohne dass es zu Überstrahlung kommt.
Praktische Details:
Gallium-Emitter erfordern eine präzise Wärmesteuerung. Achten Sie auf die Temperatur des Untergrunds – die Effizienz der Reflektoren kann dazu führen, dass lokale Hitzepunkte entstehen. Vor der Integration sollten Sie die Kompatibilität der Komponenten sowie die Geometrie der Reflektoren überprüfen. Die Gleichmäßigkeit der Strahlung hängt von einer präzisen Ausrichtung bezüglich des Druckleits ab. Planen Sie außerdem eine spektrale Überprüfung mit einem kalibrierten Radiometer auf der Oberfläche des Untergrunds – nicht an der Oberfläche der Lampe.