На поверхні пресу, коли процес висихання за допомогою УФ-випромінювання не відбувається належним чином, часто можна знайти причину там, де її найменше очікуєш – це тонкий шар олійної пилу та залишків чорнила на поверхні лампи та рефлектора. Цей шар „викрадає“ фотони УФ-випромінювання ще до того, як вони досягнуть поверхні матеріалу. В результаті відбувається слабке з’єднання частинок матеріалу, погіршується їх адгезія, і процес друку зупиняється. Ви вже бачили таке: липке чорнило, дірки на поверхні матеріалу, зміна рівня глянцю з одного замовлення на інше.
Рішенням не є збільшення потужності лампи. Рішення полягає у підтримці чистоти та стабільності оптичних елементів.
Що насправді має значення
Процес висихання за допомогою УФ-випромінювання залежить від спектрального випромінювання та енергійної щільності, яка доходить до поверхні матеріалу. Лампи на основі ртуті досягають свого піку при довжині хвилі 365 нм; сильне випромінювання спостерігається при довжинах хвиль 254 нм та 436 нм – саме це потрібно для фотоініціатора. Рефлектори з дихроїчними покриттями формують спектральний розподіл енергії та підтримують високий рівень опромінення, відкидаючи інфрачервоне випромінювання з променя.
Коли на поверхні кварцового корпусу лампи залишаються залишки чорнила, її відбивна здатність знижується, а потужність випромінювання також зменшується. За допомогою радіометра можна виміряти рівень опромінення в мВ/см² та дозу в мДж/см². До того часу, як оператори помітять погіршення якості, потужність випромінювання вже знизилась на 15–30%.
Чому це ефективно на практиці
Щоденна чищення допомагає повернути рівень фотонного потоку до норми та стабілізувати процес висихання. Необхідно протирати лампу та рефлектор ізопропіловим спиртом та серветкою без ворсу, а також перевіряти наявність туманності на поверхні. Ця процедура запобігає передчасному старінню лампи через „гарячі точки“ та тепловий стрес, а також забезпечує належну роботу рефлектора.
Команди, які дотримуються чіткого графіка чищення, отримують стабільну дозу випромінювання, менше бракованих продуктів, а термін служби лампи збільшується приблизно на 30%. Це означає більше часу роботи, менше замін ламп та стабільну якість друку з моменту початку роботи до кінця зміни.
Що потрібно пам’ятати
Перед чищенням завжди необхідно дати лампі охолонути та вимкнути її. Під час роботи з кварцом обов’язково носіть рукавички – відбитки пальців можуть залишитися на поверхні кварцу. Також необхідно перевірити електричні характеристики та сумісність контактів з модулем для висихання матеріалу. Крім того, потрібно переконатися, що довжина променя відповідає фокусній площині рефлектора.
Є один недолік: агресивні розчинники та засоби для чищення можуть пошкодити кварц та дихроїчне покриття, що прискорює зниження потужності випромінювання. Тож необхідно вести записи про рівень опромінення, щоб чищення та заміна лампи відбувалися на основі даних, а не припущень.